سي سي سيرامڪ جھلي

ترقي يافته سيمي ڪنڊڪٽر جي پيداوار ۾، SiC سيرامڪ جھلي هڪ ملٽي فنڪشنل جزو طور ڪم ڪري ٿو جيڪو سڌو سنئون عمل جي استحڪام، ويفر يونفارميشن، ۽ مجموعي پيداوار جي ڪارڪردگي تي اثر انداز ٿئي ٿو. CVD، MOCVD، ۽ PECVD سسٽم اندر، اهو عمل گيسن ۽ رد عمل جي ماحول جي وچ ۾ هڪ نازڪ انٽرفيس جي طور تي ڪم ڪري ٿو، وهڪري جي حرڪت، حرارتي توازن، ۽ آلودگي جي دٻاءُ جي صحيح ڪنٽرول کي يقيني بڻائي ٿو.

پنهنجي انتهائي يونيفارم پورس آرڪيٽيڪچر ذريعي، SiC جھلي ويفر جي مٿاڇري تي ليمينار ۽ هڪجهڙائي سان ورهايل گئس جي ترسيل کي فروغ ڏئي ٿي. هي يونيفارم فلو فيلڊ اڳوڻن ڪنسنٽريشن ۾ مقامي تبديلين کي گھٽائي ٿو، ان ڪري ايپيٽيڪسيل يا ڊائي اليڪٽرڪ جمع دوران فلم جي ٿلهي جي هڪجهڙائي ۽ ساخت جي مستقل مزاجي کي وڌائي ٿو. ساڳئي وقت، جھلي جي نفيس پورس جي جوڙجڪ هڪ مؤثر اعلي-درجه حرارت پارٽيڪل فلٽر جي طور تي ڪم ڪري ٿي، ڪنڊينسٽس، ڪاربن جي باقيات، ۽ سب مائڪرون پارٽيڪلٽس کي قبضو ڪري ٿي ان کان اڳ جو اهي فعال ويفر زون تائين پهچن - خرابي جي کثافت کي گهٽائڻ ۽ اعلي ڊوائيس جي اعتبار کي برقرار رکڻ ۾ هڪ ضروري عنصر.

وهڪري ۽ فلٽريشن کان ٻاهر، SiC سيرامڪ ميٽرڪس پروسيس چيمبر اندر هڪ مضبوط حرارتي ۽ ڪيميائي رڪاوٽ فراهم ڪري ٿو. اهو حساس حصن کي رد عمل واري نسلن کان الڳ ڪري ٿو، پوئتي آلودگي کي گهٽائي ٿو، ۽ وڌايل پيداوار جي چڪر دوران چيمبر جي صفائي کي محفوظ رکي ٿو. ايگزاسٽ علائقن ۾، ساڳئي جھلي ٽيڪنالاجي کي دٻاءُ کي مستحڪم ڪرڻ ۽ باقي بچيل ضمني شين کي ڦاسائڻ لاءِ استعمال ڪري سگهجي ٿو، صاف ايگزاسٽ لائينن ۽ ڊگهي سار سنڀال جي وقفن ۾ حصو وٺندي.

انهن ڪمن کي هڪ پائيدار جزو ۾ ضم ڪرڻ سان، SiC سيرامڪ ميمبرين نه رڳو CVD ۽ MOCVD ري ايڪٽرن جي آپريشنل ڪارڪردگي کي بهتر بڻائي ٿو پر هڪ وڌيڪ مستحڪم ۽ ورجائيندڙ عمل ماحول کي پڻ قابل بڻائي ٿو - هڪ اهڙو ماحول جيڪو ايندڙ نسل جي سيمي ڪنڊڪٽر فيبريڪيشن جي سخت پاڪائي ۽ ڪارڪردگي جي گهرجن کي پورو ڪري ٿو.

سي سي سيرامڪ جھلي ڪيئن ٺهيل آهي؟